РусскийEnglish
 » Каталог продукции » Оборудование для нанесения вакуумных покрытий

ВУ-1А

Предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с од-новременным контролем толщины покрытия.

Техническая характеристика

Рабочий вакуум, Па 4х10-4
Размер рабочей камеры (Ø х Н), мм 700х700
Время достижения рабочего вакуума при нагреве камеры до 320 °C, мин 40
Количество электронно-лучевых испарителей, шт 1
Количество резистивных испарителей, шт 2
Потребляемая мощность, кВт 20
Площадь, занимаемая установкой, м. кв. 6
Масса, кг 2600

ВУ-2М

Предназначена для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия.

В установке предусмотрены: откачка камеры, ионная очистка и нагрев деталей в автоматическом режиме; нанесение покрытий в ручном режиме.

Техническая характеристика

Рабочий вакуум, Па 6х10-4
Размер рабочей камеры (Ø х Н), мм 700х770
Время достижения рабочего вакуума без прогрева объема камеры, мин 30
Количество электронно-лучевых испарителей, шт 2
Количество резистивных испарителей, шт 1
Потребляемая мощность, кВт 30
Площадь, занимаемая установкой, м. кв. 6
Масса, кг 1970

ВУ-800

Унифицированная гамма вакуумных установок для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводников и металлов с одновременным кварцевым и фотометрическим контролем толщины покрытия в автоматическом режиме откачки и процесса напыления.

Стабилизация техпроцесса нанесения покрытия и управления им производится на базе встроенной микроЭВМ с цветным графическим дисплеем.

Техническая характеристика

  ВУ-800М ВУ-800В ВУ-800И ВУ-800У
Рабочий вакуум, Па 5х10-4 5х10-4 5х10-4 5х10-4
Время достижения рабочего вакуума, мин 30 30 30 30
К-во электронно-лучевых испарителей, шт - 2 2 2
К-во резистивных испарителей, шт 2 2 2 2
Диапазон фотометрического контроля, мкм 0,4÷0,8 0,25÷1,1 0,8÷2,6 0,25÷2,6
Потребляемая мощность, кВт, не более 28 40 40 40
Площадь, занимаемая установкой, м. кв., не более 7,7 7,7 7,7 7,7
Масса, кг., не более 2770 3000 3000 3180

ВУ-3

Предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали: металлических, просветляющих, интерференционных, зеркальных и других - для различных областей спектра методами термического и электронно-лучевого испарения различных материалов с одновременным контролем оптической толщины покрытия.

Конфигурация компьютера системы управления установки - Pentium.

Перспективным является применение установки в технологии изготовления изделий микроэлектроники для нанесения проводящих, резистивных и диэлектрических тонких плёнок с заданными параметрами.

Техническая характеристика

Внутренние размеры рабочей камеры установки, мм
- основание Ø 800
- высота 950
Диаметр обрабатываемых деталей, мм до 500
Для распыления материала используются
- два электронно-лучевых испарителя мощностью 12 кВт
- два термических испарителя мощностью 4 кВт
Предусмотрены:
- ионная очистка обрабатываемых деталей;
- замена электронно-лучевых и (или) термических испарителей системой (системами) ионно-плазменного распыления

Установка обеспечивает высокоточный регулируемый нагрев оптических деталей в диапазоне температур от 300 до 600 °C

Наверх страницы